IMPLANT · DIFFUSION
注入能量决定射程，退火温度和时间决定再分布。从高斯分布到余误差函数，一条曲线看完。
掺杂年会员 解锁本工序全部 2 个模拟器，含全部参数、参数保存与导出。
预淀积的 erfc 和再分布的高斯，结深怎么算。
能量、剂量与沟道效应，Rp 和 ΔRp 怎么随能量变。
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